CMOSイメージセンサ
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CMOSイメージセンサ（シーモスイメージセンサ）はCMOS（相補性金属酸化膜半導体）を用いた固体撮像素子。CCDイメージセンサと同様に、フォトダイオード(PD)を使用するが、製造プロセスと信号の読み出し方法が異なる。
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[編集] 歴史
CMOSイメージセンサの原理が考案されたのは1960年代後半と古いが、実用化されたのは半導体微細加工技術が高度化した1990年代以降である。
[編集] 特徴
単位セルごとに増幅器を持つことで、光変換された電気信号の読み出しによる電気ノイズの発生が抑えられるという特徴を持つ。CMOSロジックLSI製造プロセスの応用で大量生産が可能なため、高電圧アナログ回路を持つCCDイメージセンサと比較して安価であり、素子が小さいことから消費電力も少なく、原理的にスミアやブルーミングが発生しないという長所がある。
また、ロジック回路を同一製造プロセスで組み込めることから、画像処理回路をオンチップ化して画像認識デバイス、人工視覚デバイスへの応用が研究されており、一部は商用化されている（人工網膜チップとも呼ばれることがある）。
イメージセンサをピクセルごとに3層を積層し、光の波長による透過の違いを利用してRGBを分別するFoveon X3も存在する。
[編集] 弱点
CCDに対してメリットのある反面、低照度状況では素子そのものが不安定になりやすく、撮影した画像にはノイズが多くなる傾向がある。また、画素毎に固定した増幅器が割り当てられるため、各増幅器の特性差により固定パターンのノイズを持つ性質があり、これを補正する回路が必要になる。近年ではPDの高出力化・低雑音化、PDから増幅器への電荷転送効率の向上、PDの受光面積を相対的に拡大するためのトランジスタの複数画素間での共用化など様々な改良手段により、S/N比が格段に向上してきた。
また、電荷化を同時に行えないという構造上の問題で、高速に動くものを撮影したときに進行方向に向かって像がゆがむことも弱点としてあげられる。これは一枚のCMOSをブロック化することによって補える。
ただし、これらの技術的アプローチによって手を加えることでCMOSの有利な点である安価という面が相殺されることも多いため、コンパクト型のデジタルカメラに搭載される小型の撮像素子ではCMOSの搭載は進んでいない。デジタル一眼レフなどで採用されているAPS-Cサイズなど、大型の撮像素子に関してはCCDは消費電力などにおいてかなりの不利な点を持つため、CMOSが用いられることもある。
[編集] 用途
CMOSイメージセンサはCCDイメージセンサに比べるとより汎用の半導体製造装置を使いまわすことができることからCCDイメージセンサと比べたときに供給価格が安い。そのため安価なデジタルスチルカメラやデジタルビデオカメラの分野で盛んに使用されている。特にビデオチャットなどで用いられるいわゆるWebカメラはそのほとんどがCMOSを搭載している。また、矢野経済研究所の調査によると携帯電話へのカメラ機能搭載が普及したこともあり、2004年にはCCDイメージセンサを出荷個数で抜いたとされる。
近年では大きいサイズで設計可能、かつコスト削減が可能な事から、デジタル一眼レフカメラにも使われる事が多くなっている。キヤノンは他社での生産に頼ることになるCCDに対し、自社で開発・製造が可能なCMOSを2004年春以降デジタル一眼レフの全機種で採用している。また、ニコンやソニーのデジタル一眼レフでもそれぞれ自社製のCMOSを一部で採用している。
また、ソニーやキヤノンは民生用の小型HDビデオカメラなどにもCMOSイメージセンサを採用している。
[編集] 新たな技術
2008年現在はシリコン基板上に作りこんだフォトダイオードはその上面に配線層が位置しているため光の有効利用が阻害されている。これは、開口率の問題というよりも斜めから入射する光が配線層の壁で遮蔽されてフォトダイオードまで届かない、まるで深い井戸の底に位置するフォトダイオード受光面を光で照らすような構造になっているためである。この構造を改め、シリコン基板の裏面を研磨して薄くし、裏面から受光する構造のCMOSイメージセンサがソニーと米Omni Vision Technologies社（世界シェア3位）で量産される予定である[1]。
[編集] その他
CMOS撮像素子を使用したカメラではストロボ光の様に瞬間的に強い光を照射すると画面の半分が黒く覆われる事例が報告されている。[2]
